近日，跨尺度制造技术重庆市重点实验室2015年度学术委员会成功召开，随后，跨尺度制造技术重庆市重点实验室（以下简称重点实验室）举办了系列学术报告，中国科学院微电子研究所陈宝钦研究员应重点实验室邀请，作了题为“电子束光刻与纳米光刻技术（E-beam Lithography and Nano-lithography Technology）”的报告。陈宝钦研究员2个多小时的报告为大家带来了光学曝光技术、光学曝光分辨率增强技术及先进掩膜技术、下一代光刻技术、传统与非传统的纳米制造技术等方面的讲解和亲身的科研经历，吸引了科研人员、研究生等四十余人前往聆听，并就有关学术问题进行了深入的探讨。 

　　陈宝钦，研究员，博士生导师，1966年毕业于北京大学物理系，1968-1985年任职于中国科学院半导体研究所，1986年至今于中国科学院微电子研究所。兼职中国科学院大学教授，北京半导体专业委员会副主任、制版分会主任，全国半导体设备与材料标准化技术委员会副主任、微光刻分委会主任，全国纳米技术标准化技术委员会微纳加工技术工作组副秘书长，中国科学院老科技工作者协会理事。多年来一直从事光掩模与先进掩模制造技术、电子束光刻技术、微光刻与微纳米加工技术研究和开发工作。