10月25-28日，第六届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会在重庆召开，本届会议由中国科学院重庆绿色智能技术研究院（以下简称“中科院重庆研究院”）承办，中科院重庆研究院院长袁家虎、全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分委会秘书长陈宝钦分别致欢迎词及开幕词，来自微光刻技术领域70余家单位的全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会委员、代表及邀请单位专家120余人参加了本届会议。 

　　在微光刻技术交流会上，中科院重庆研究院、中国科学院微电子研究所、中国科学院光电技术研究所等16家单位代表为大家带来了精彩的专业报告，报告涵盖了微光刻技术、微光刻设备与材料技术等内容，与会代表们在会上分享了各自领域的最新进展及研究成果。在微光刻技术委员会年会上，与会委员审议了《微电子学微光刻技术术语》、《基片上抗蚀剂膜厚度测量所涉及的参数规范》等6项国家标准内容。此外，会议还准备了自由交流和展示时间，参会代表自由分享了各自技术领域的研发经验与心得。 

　　本次大会齐聚了国内高水平微光刻领域专家，为大家提供了一个很好的行业内最新发展动态进行了解及交流的平台，建立了高端微光刻设备生产与用户使用体验的沟通反馈渠道。会后，代表们还参观了中科院重庆研究院微纳加工检测工艺技术平台。下一届会议将在浙江嘉兴举行。

袁家虎院长致辞

陈宝钦致辞

会议合影