磁增强反应离子刻蚀机

仪器型号：ME-3A型

购置年月：2012年6月

仪器简介：

ME－3A型多功能机既可作反应离子刻蚀(RIE)，又可作磁增强反应离子刻蚀(MERIE)，且转换十分方便(只需拨一下开关)，由于有磁场的作用，它在较高真空度(< 1Pa)下亦可起辉并稳定工作，因此，它不仅可用于常规的半导体干法刻蚀，还特别适用于亚微米和边沿陡直图形的刻蚀，使用不同的气体，它可刻蚀Si₃N₄、SiO₂、磷硅玻璃、Si、poly－Si、W、WSi、Mo、石英、铌、正、负光刻胶、聚乙酰亚胺等材料。该机型具有六路进气入口(其中二路用于气路清洗)，采用4个质量流量计控制气流流量，因此重复性好，可自动控时。另外，该机预抽真空的时间很短(3~5分钟)，工作效率高，操作简单。

应用范围：

不仅可用于常规的半导体干法刻蚀，还特别适用于亚微米和边沿陡直图形的刻蚀。

技术参数：

1. 射频功率：10-500瓦(可调)

2. 真空系统：110升/秒分子泵机组

3. 均匀性：±5% (4英寸内)

4. 反应室尺寸：内径300 mm

5. 整机尺寸：1.06×0.7×1.32 m³