移动掩模曝光系统（紫外光刻机）

仪器型号：中国光电URE-2000A/55

购置年月：2012年6月

仪器简介：

URE-2000系列紫外深度光刻机采用积木错位蝇眼透镜平滑衍射效应、真空曝光和气浮曝光等技术，实现了高均匀照明和亚微米高分辨力光刻；采用底面对准技术，单曝光头实现高准确度双面对准曝光；采用积木错位蝇眼透镜结合离轴非球面反射照明等技术，实现大面积、高能、均匀、冷光、平行曝光；采用双焦点对准技术，实现厚胶高准确度对准与套刻。

应用范围：

广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域，在LED、MEMS、IC领域及大尺寸光栅、码盘等刻划中也具有突出的功能与用途。

技术参数：

1. 曝光面积：150mm×150mm

2. 分辨力：0.8-1μm（胶厚2μm的正胶）

3. 对准精度：0.6μm

4. 掩模样片整体运动范围：X：6mm;Y:6mm

5. 掩模尺寸：3英寸、4英寸、5英寸、7英寸

6. 样片尺寸：直径15mm-- 150mm；厚度0.1mm--8mm

7. 照明均匀性： 3.5%（100mm 范围）； 5%（ 150mm范围）

8. 掩模相对于样片运动行程：X: 5mm; Y: 5mm; : 6度

9. 最大胶厚：500m(SU8胶，用户提供匀胶条件)

10. 光源平行性：3.5

11. 汞灯功率：1000W（直流）

12. 曝光设定方式：定时（倒计时方式0.1s-999.9s任意设定）

13. 外形尺寸:1400mm（长）1200mm(宽) 2150mm（高）